設備名稱
超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機,高剪切研磨分散機,超高速研磨分散機,高剪切研磨機,高剪切分散機
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品,表現出許多特殊的性質,如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。
如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現團聚的現象,團聚體難以打開,而如果采用SGN研發的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。
SGN研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米*、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
GMD2000系列研磨分散設備是SGN(江蘇)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000系列超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機設備參數表:
研磨分散機 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
GMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
GMD 2000/5 |
1000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
GMD 2000/10 |
3000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
GMD 2000/20 |
8000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
GMD 2000/30 |
20000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
GMD2000/50 |
60000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到蕞大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4 本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。