ERS2000系列納米研磨分散乳化機型號

研磨乳化機是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為，然后在乳化頭上面加配了研磨乳化機磨頭，使物料可以先經(jīng)過研磨乳化機細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的研磨乳化機可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

7890/13789RPM 可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM（轉速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小）。

IKN研磨乳化機結構：三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結構，但是他們的設計不同理念不同，形狀及齒列的結構。                   

納米研磨乳化機特高精度（8SF）均質(zhì)頭：主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特別適合于微乳化和精細懸浮，可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。

特別應用于:疫苗，細胞破碎，膠體溶液，金屬氧化物懸浮液，墨水，印刷涂料，色素混合等等。主要針對低粘度范圍的物料，也可以和一個喂料泵相連。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

ERS2000系列納米研磨分散乳化機型號

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型研磨乳化機腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ電機選配件： PTC 熱保護、降噪型研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器